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roduct
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Hf |
Zr |
Al |
C |
Cd |
Co |
Cr |
Cu |
Fe |
Mg |
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99.9 |
0.01 |
0.001 |
0.0032 |
0.001 |
0.001 |
0.001 |
0.001 |
0.0056 |
0.001 |
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Mn |
Mo |
N |
Nb |
Ni |
O |
Ta |
Ti |
V |
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0.001 |
0.001 |
0.001 |
0.0057 |
0.001 |
0.004 |
0.001 |
0.001 |
0.001 |
1
主要用于紫外膜、防反膜或高反膜和耐火材料、紫外-近红外多层膜。
2
HfO2薄膜是一种绝缘氧化物，即可做薄膜电阻，又可做介子薄膜，一般用溅射法沉积制备。
