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roduct
牌号
Ni
V
C
Fe
Si
NiV5050
余量
49-51%
0.05
1
主要用于溅射镀膜靶材，高温合金添加剂，电子、光学、磁性等领域的薄膜制备。
2
广泛应用于航空航天、核工业、化工等。
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